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silicon carbide SIC
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Black silicon carbide 60# 80# 120# for glass blasting

Carburo de silicio negro 60# 80# 120# para granallado de vidrio.
El carburo de silicio negro (SiC) en granos 60#, 80# y 120# es un abrasivo profesional especialmente desarrollado para aplicaciones de granallado de vidrio, ideal para el tratamiento de superficies de diversos productos de vidrio.

$1,320.00 /MT

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Carburo de silicio negro 60# 80# 120# para granallado de vidrio

El carburo de silicio negro (SiC) en granos 60#, 80# y 120# es un abrasivo profesional especialmente desarrollado para aplicaciones de granallado de vidrio, ideal para el tratamiento de superficies de diversos productos de vidrio.
Con alta dureza, partículas afiladas y excelente capacidad de autoafilado, este carburo de silicio negro ofrece un rendimiento de granallado eficiente. El grano 60# es adecuado para el granallado grueso de vidrio, eliminando manchas difíciles y dando forma a los bordes; el grano 80# para un granallado medio que logra una superficie mate uniforme; y el grano 120# para un granallado fino, creando un acabado suave y delicado sin dañar el vidrio.
Presenta un bajo contenido de impurezas, no altera el color del vidrio y posee una buena fluidez, lo que garantiza un efecto de granallado uniforme. No tóxico y resistente al desgaste, se utiliza ampliamente en la decoración de vidrio, vidrio automotriz, vidrio arquitectónico y procesamiento de cristalería. Ofrecemos productos de alta calidad con granulometría estable y precios competitivos, y también brindamos la opción de muestreo en lotes pequeños.
PROPIEDADES FÍSICAS
Peso específico 3,95 gramos/ cm³
Dureza de Mohs 9.15
Temperatura máxima de servicio 1900℃
Punto de fusión  2250℃

Se utiliza para abrasivos, granallado, pulido, cerámica, eliminación de óxido, tratamiento de superficies, revestimiento de suelos, capa resistente a la abrasión, etc.

ANÁLISIS QUÍMICO TÍPICO [%]

Sic Fe2O3 FC F.Si SiO 2 LEY
≥98,5 ≤0,10 ≤0,20 ≤0,20 ≤0,50 < 0,05

DISTRIBUCIÓN DEL TAMAÑO DE LAS PARTÍCULAS

F8 +4000 µm 0 +2800 µm ≤20% +2360 µm ≥45% +2360+2000um ≥70% -1700 µm ≤3%
F10 +3350 µm 0 +2360 µm ≤20% +2000 µm ≥45% +2000+1700 µm ≥70% -1400 µm ≤3%
F12 +2800 µm 0 +2000 µm ≤20% +1700 µm ≥45% +1700+1400 µm ≥70% -1180 µm ≤3%
F14 +2360 µm 0 +1700 µm ≤20% +1400 µm ≥45% +1400+1180um ≥70% -1000 µm ≤3%
F16 +2000 µm 0 +1400 µm ≤20% +1180 µm ≥45% +1180+1000um ≥70% -850 µm ≤3%
F20 +1700 µm 0 +1180 µm ≤20% +1000 µm ≥45% +1000+850um ≥70% -710 µm ≤3%
F22 +1400 µm 0 +1000 µm ≤20% +850 µm ≥45% +850+710um ≥70% -600 µm ≤3%
F24 +1180 µm 0 +850 µm ≤25% +710 µm ≥45% +710+600 µm ≥65% -500 µm ≤3%
F30 +1000 µm 0 +710 µm ≤25% +600 µm ≥45% +600+500 µm ≥65% -425 µm ≤3%
F36 +850 µm 0 +600 µm ≤25% +500 µm ≥45% +500+425 µm ≥65% -355 µm ≤3%
F46 +600 µm 0 +425 µm ≤30% +355 µm ≥40% 355+300 µm ≥65% -250 µm ≤3%
F54 +500 µm 0 +355 µm ≤30% +300 µm ≥40% +300+250 µm ≥65% -212 µm ≤3%
F60 +425 µm 0 +300 µm ≤30% +250 µm ≥40% 250+212 µm ≥65% -180 µm ≤3%
F70 +355 µm 0 +250 µm ≤25% +212 µm ≥40% +212+180 µm ≥65% -150 µm ≤3%
  F80 +300 µm 0 +212 µm ≤25% +180 µm ≥40% +180+150 µm ≥65% -125 µm ≤3%
F90 +250 µm 0 +180 µm ≤20% +150 µm ≥40% +150+125 µm ≥65% -106 µm ≤3%
F100 +212 µm 0 +150 µm ≤20% +125 µm ≥40% +125+106 µm ≥65% -75 µm ≤3%
F120 +180 µm 0 +125 µm ≤20% ≥40% ≥40% +106+90um ≥65% -63 µm ≤3%
F150 +150 µm 0 +106 µm ≤15% +75 µm ≥40% +75+63 µm ≥65% -45 µm ≤3%
F180 +125 µm 0 +90 µm ≤15% +75 µm * +75+63 µm ≥40% -53 µm *
F220 +106 µm 0 +75 µm ≤15% +63 µm * +63+53 µm ≥40% -45 µm *

Principalmente aplicaciones

– Abrasivos aglomerados y abrasivos recubiertos

-Granallado, tratamiento de superficies, eliminación de óxido

-Granallado húmedo y seco, esmerilado y pulido, etc.

-Laminados para suelos/paredes, resistentes al desgaste

-Productos cerámicos: Cerámica y azulejos, placas filtrantes cerámicas, membranas cerámicas, etc.

-Pintura de teflón, etc.

– Material aislante térmico

-Muelas abrasivas, muelas de copa, piedras de afilar, almohadillas de pulido, etc.

-Se utiliza para crisoles, piezas para hornos de cocción, sellos mecánicos y materiales para la producción de semiconductores.

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