Introducción a la producción
El polvo de pulido de alúmina calcinada en placa se fabrica con polvo de alúmina industrial de alta calidad como materia prima y se procesa mediante un proceso de producción especial. La forma cristalina del polvo de pulido de alúmina producido es hexagonal, plana y tabular, por lo que se denomina alúmina en plaquetas o alúmina tabular.
La pureza de la alúmina en placa supera el 99% y presenta resistencia al calor, a la corrosión por ácidos y álcalis, y alta dureza. A diferencia de las partículas esféricas abrasivas tradicionales, la superficie inferior de la alúmina plana es plana, y las partículas se adaptan a la superficie de la pieza durante el rectificado, lo que produce un efecto de rectificado deslizante que evita que las esquinas afiladas rayen la superficie de la pieza. Por otro lado, durante el rectificado, la presión de rectificado de la alúmina en placa se distribuye uniformemente sobre la superficie de las partículas, lo que dificulta su rotura y mejora la resistencia al desgaste, mejorando así la eficiencia del rectificado y el acabado superficial.
Para materiales semiconductores como las obleas de silicio, la aplicación de óxido de aluminio en placas puede reducir el tiempo de molienda, mejorar considerablemente la eficiencia, reducir las pérdidas en la rectificadora, ahorrar mano de obra y costos de molienda, y aumentar la tasa de aprobación. Su calidad es similar a la de marcas extranjeras reconocidas.
La eficiencia del trabajo de pulido de la bombilla de vidrio del tubo de imagen aumenta de 3 a 5 veces;
La tasa de productos calificados aumenta entre un 10 y un 15% y la tasa de productos calificados de obleas semiconductoras alcanza más del 99%;
El consumo de molienda es entre un 40 y un 40 % menor que el del polvo de pulido de alúmina común;
Composición química
| Químico | Valor garantizado | Valor típico |
| Al2O3 | ≥99,0% | 99,36% |
| SiO2 | ＜0,2% | 0,017% |
| Fe2O3 | <0,1% | 0,03% |
| Na2O | ＜0,6% | 0,35% |
Propiedades físicas
| Material | α-Al2O3 |
| Color | Blanco |
| Peso específico | ≥3,9 g/cm3 |
| Dureza de Mohs | 9.0 |
Tallas disponibles
| Tipo | D3(um) | D50 (uno) | D94 (alrededor) |
| HXTA45 | 50,5-56,2 | 33-38.5 | 20,7-24,5 |
| HXTA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
| HXTA35 | 35,4-39,8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
| HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
| HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
| HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
| HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
| HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
| HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
| HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2,55-3,05 |
| HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
Aplicaciones del producto
1) Industria electrónica: rectificado y pulido de obleas de silicio monocristalino semiconductor, cristales de cuarzo, semiconductores compuestos (galio cristalino, nano fosfatado).
2) Industria del vidrio: molienda y procesamiento de cristal, vidrio de cuarzo, pantalla de vidrio de cinescopio, vidrio óptico, sustrato de vidrio de pantalla de cristal líquido (LCD) y cristal de cuarzo.
3) Industria de recubrimientos: recubrimientos especiales y cargas para proyección de plasma.
4) Industria de procesamiento de metales y cerámica: materiales cerámicos de precisión, materias primas cerámicas sinterizadas, recubrimientos de alta calidad y alta temperatura, etc.
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